頂點小說 > 我的金融科技帝國 >第845章【新城微電子半導體】
    別看上次陳宇在外網的那次手筆嚇壞了鎂國人,但這並沒有從根本上改變因特網是被老美控制的事實,儘管陳宇有強大的入侵技術水平,但如果老美直接物理上“拔網線”你也沒轍。

    說到底,因特網終究是鎂國人控制的網,而不是真正意義上的互聯網。

    現在確實因爲陳宇此前在外網的出手對老美起到了一定的震懾作用,但也可以肯定的是,老美那邊的技術團隊現在絕對是在瘋狂的修復中。

    現在能具備一定的威懾力,以後可就難說了。

    說來說去還是得擺脫因特網,這纔是從根本上解決可能被老美單方面“斷網”威脅的辦法。

    顯而易見,電信網是可以繞開因特網的一系列問題,因爲電信網可不受鎂國人的控制。

    加上衛星通信可以打破電信網的領土邊界管轄的問題,這又是衝出國門,走向世界的關鍵。

    畢竟,全世界還是有一大票人不爽美帝的,只不過迫於其勢不敢表露出來,與之不對付的大有人在,活在其陰影中的也大有人在,有時候明知道自己的通信設備可能被老美監控,但是沒辦法,你不用就沒得用。

    老美的“棱鏡門”事件纔過去沒多長時間。

    如果這個時候能夠出現一款替代產品,還能完全規避CIA的監控,那吸引力絕對是槓桿的,就算表面上說絕對不用,私底下肯定會過來悄悄摸的下單。

    這也是星宇科技的產品未來走向國際化的一大重要的賣點。

    卻說此刻,方鴻與秦豐的視訊連線商討展開了半個多小時左右便就此結束,星宇科技目前的開發任務也很繁重,手底下不但有拳頭產品STAR系列智能手機的全國產化之路,現在還有新能源車這一塊也在發展。

    方鴻與他結束通話之後,順手便在電腦上打開了行情軟件,然後輸入了一個代碼瞅了眼,其所對應的公司叫“新微半導體”,這家企業是羣星系旗下的子公司,也是此前方鴻擬定的20家新上市的子公司之一。

    在方鴻制定的國產半導體全產業鏈體系中,這家企業負責的便是光刻機這一塊的設備廠商,光刻機對於半導體行業的重要性無需多言了,可見其身肩重擔,被寄予厚望。

    該公司就在今天正式登陸A股市場,走的是借殼上市的路子,正常IPO肯定是沒這麼快,新微半導體公司目前都是處於燒錢階段,沒有任何的盈利,也只能走借殼上市的路子。

    此次借殼上市,新微半導體向市場要了105個億,估值700億元,在半導體行業板塊上來就給到700億的估值是非常罕見的,此前就沒有過。

    而且,眼下板塊內超過500億市值的半導體公司都是隻手可數,這在一定程度上也反應了國產半導體的窘境。

    方鴻瞅了眼新微半導體的分時盤面,復牌首日不設漲跌幅限制,盤中股價最高衝到了59元價位,漲幅超+114%,市值規模飆升到了1600億之巨,直接躍升成爲當前半導體板塊市值第一股。

    不過這會兒已經回落下來了,目前的股價維持在了40元價位附近震盪,對應的市值規模大約1000億左右,最終收盤也在40元價位上方結束。

    ……

    到了第二天一早,方鴻起來瞅了瞅早間資訊,看到了一條與光刻機,乃至和新微半導體設備公司有關的新聞。

    ASML公司總裁彼得在媒體上公開聲稱:華國企業自研光刻機的行爲,是在破壞全球芯片產業鏈……

    “呵呵……”

    方鴻看到這條新聞不禁笑了,自顧自地說道:“看來,多少還是有點急眼了啊,急眼就對了。”

    國產光刻機對標世界最先進水平其實還有很長的一段距離要走的,可是今年上半年以來,大基金的出現讓國際上的那些廠商感覺到了“不對味兒”,他們一開始就嘗試要滲透、孵化大基金的管理層。

    可他們並沒有意識到,這會兒的大基金管理層團隊雖然明面上和羣星資本沒什麼關係,但實際上都是方鴻派過去的人,而結果就是他們發現滲透、孵化這一招收效甚微。

    現在大基金的前都在落地到實處,比如這主攻光刻機的新微半導體就拿了不少錢,而且昨天借殼上市又向資本市場要了105個億,幾乎提供了花不完的錢。

    拿了那麼多的錢,基本都砸到研發項目裏。

    目前新微半導體同時在搞三代光刻機,因爲光刻機的研發生產並不需要由低到高、循序漸進,是可以平行研發的,所以新微半導體直接起了三個團隊並行研發。

    這三個團隊分別攻關第四代ArF光刻機,第五代ArFi光刻機,以及第六代極紫外光EUV光刻機。

    第四代的ArF光刻機與第三代KrF原理一樣,但光源升級,採用193nm光源的光刻機,這兩種稱之爲DUV光刻機。

    而第五代ArFi光刻機,採用的也是193nm光源,但這種又與ArF不一樣,之前所有的光刻機其介質採用的是空氣,但到了ArFi光刻機時,採用的是水。

    光線在經過水時,會有折射,所以雖然ArFi光刻機採用193nm波長光源,經水折射時,等效於134nm波長的光源,所以這種光刻機,叫做浸潤式光刻機。

    說起來,曾經業界光刻機技術停止了很多年,尼康、佳能想把光源從193nm升級爲165nm,但好多年沒成功。

    而擡積電提出來用水作介質,就跳過157nm,變成143nm了。

    尼康、佳能很傲慢,不理擡積電,那時候ASML只是個小廠,也敢於一試,最後就搏出了ASML的未來,研發出了ArFi浸潤式光刻機,然後打得尼康、佳能一敗塗地,成就了今天的行業地位。

    而第六代EUV光刻機,採用的則是13.5納米的極紫外線光源了,這種光刻機目前全世界都沒有搞出來,ASML也一樣,針對的事7納米制程級別的芯片製造,而當前世界最先進的製程是在14納米這一階段。

    可以確定的,整合國內光刻機產業鏈的新微半導體,其技術水平就是代表了目前國產技術的最高水平,現在是把所有的相關資源都砸在了新微半導體身上,由該公司對光刻機展開全力攻克任務。

    像G線、I線國內都有了,KrF也有了,就是新微半導體突破的。

    目前在攻克的ArF光刻機也已經快要突破了,並且正在全力死磕ArFi光刻機,同時對於極紫外光刻EUV的研究也有團隊在展開論證。

    各代的光刻機開發團隊並行展開,同時也相互交流。

    現在的新微半導體是要錢有人給錢,要人才方鴻這邊到處給他找,而且因爲老美對技術、元件等進行了封鎖,在很大程度上非但沒有擊垮,反而因爲外部的壓力促使內部變得更加團結一致死磕。

    ……