頂點小說 > 核動力都出來了,你說你本科生? >第085章 研發成功了!
    南江戰略研究基地,光電研究實驗室。

    此時,整個研究基地已經恢復了秩序。

    低頻脈衝造成的影響確實挺大,不過持續時間也不過半個小時不到。

    最主要是蘇川在如此短暫的時間中,就取得了研發成果。

    這一點狠狠的擊中了衆人的心臟。

    在整個刑天計劃中,只有蘇川這位總工程師是沒有任何的團隊以及助理的。

    也就是這些科學研究成果都是蘇川一個人獨立完成。

    他們這些帶着各自團隊進行研發的科學家,別說是獲得成果了。

    直到現在,甚至連階段性的進展都沒有了。

    這讓參與刑天計劃的這些專家以及科學家如何不敬佩蘇川?

    很顯然,方舟反應爐的誕生,狠狠的激勵了所有人。

    如果蘇川認真的觀察系統面板上的研究進度。

    那麼他就能夠看到,機械動力裝甲的進度提升速度,比起往日至少增減了50%!

    當然,哪怕是如此大幅度的提升,對於整個任務的進度而言,提升依舊緩慢。

    光電實驗室中,此刻正在對於光刻機的研發,不斷的作出嘗試。

    賀老帶着一副老花鏡,一直守在機器旁邊。

    直到機器運作結束,立刻就有人將冷卻過後的芯片送到了賀志遠的手中。

    作爲光電研究負責人,光刻機的研發同樣是他盯着進行的。

    “賀老,您看看!”

    此刻的“芯片”還不能夠稱之爲芯片,嚴格意義上來說,應該稱之爲晶圓。

    這是一種集成電路半導體的原材料!

    目前的晶圓也僅僅只是經過了光刻這一個步驟而已。

    在此之後還需要進行蝕刻,添加化學離子混合劑,使得光刻、蝕刻後的每個晶體管都能夠充足的打開!

    經過這些流程過後,晶圓才能夠被稱之爲芯片。

    最後在經過測試以及調試,這些芯片就能夠正式的投入使用了。

    賀志遠取下了眼睛,在晶圓上大致的看了一眼。

    整體並沒有太多的雜質!

    接下來的觀察,還需要專門的設備進行查驗。

    畢竟納米級別的光刻痕跡,別說是肉眼了。

    哪怕是一般的顯微鏡都沒有辦法看到。

    必須要納米級別的光學顯微鏡才能夠觀察到。

    這種顯微鏡的顯示倍數至少也是1000倍規模。

    只見賀老腳步匆匆,親自將晶圓放在專門的檢驗儀器上。

    在一旁的電子屏幕上,很快就浮現出,經過放大後,晶圓表面的情況。

    一個合格的光刻機,製造出來的晶圓,表面的情況應該與他們光刻模板幾乎一致。

    同時至少也要保證90%以上的成功率!

    “賀老,這一批的晶圓效果怎麼樣?”

    在一旁的光刻操作人員詢問道。

    實驗室中,所有人都在等待着賀老的結果。

    賀志遠並沒有說話,用他手不斷拖動着鼠標,觀察着晶圓的情況。

    畢竟是精確到納米級別的光刻機!

    這一項研究對於他們而言,顯然也充滿了十足的挑戰!

    很快,他就皺起眉毛來了。

    在無數研究人員的注視下,賀老平靜搖了搖頭。

    只見他轉過身來,念出了幾個座標。

    “你們注意一下142,64還有7,69這兩個座標。”

    “這兩個座標的附近,幾乎都有3-4納米的誤差!”

    他從儀器中,取出了檢驗的晶圓平靜的說道。

    “這麼高的誤差,表示我們依舊無法生產10納米以下的芯片!”

    “距離目前世界上高精度芯片還有着相當的距離。”

    圍繞在一旁的研究人員,以及專家無不底下頭來。

    話雖然是這麼說,可對比起他們之前的光刻機技術已經成長了許多了。

    儘管成功率不算高,在此之前也已經制造出幾片5納米規格的芯片。

    賀老平靜的說道。

    “另外,我在這裏宣佈一個好消息,以及一個壞消息。”

    賀志遠的聲音,讓衆人再度擡起頭來。

    這種說話語氣,可不像是賀老啊。

    不過,光電研究團隊,還是流露出好奇。

    “賀老,您說!”

    賀志遠點了點頭,平靜的說道。

    “目前,其實我們的曝光系統其實已經基本沒有問題。“

    “脈衝冷激光經過反射後,完全能夠用於光刻。”

    他的語氣一頓,繼續說道。

    “先說壞消息。”

    “現在的問題在於,光刻機的對準系統出現了問題。”

    “在晶圓光刻後,始終會出現一定的偏差!”

    賀志遠突然流露出一絲微笑。

    “至於好消息是,我已經想到了解決這個問題的方法!”

    “如果不出意外,目前我們所掌握的光刻技術,至少能夠製造出1納米級別的芯片!”

    正當衆人準備鼓掌的時候。

    賀志遠舉起了手製止了衆人。

    “還沒成功呢!”

    “何況這點成就,與蘇總工的冷核聚變來說,根本不足爲題。”

    “你們快去將光刻機的模具拿過來,還有光刻機對準系統的工作日誌打印下來。”

    “我現在就要對於光刻機的對準系統,進行改良!”

    在賀老的言語之下,實驗室裏的衆人立刻忙碌了起來。

    賀志遠看着頭頂明亮的燈泡,流露出笑容。

    其實能夠在這麼短的時間內,光刻機取得階段性的進展,還是取決於蘇川。

    首先是,對於蘇川提出脈衝冷激光的想法,直接改變了他的思路。

    這段時間,他們一直在研究脈衝冷激光。

    在此之前,嘗試的極紫外光最多也就保證10納米到15納米精度的光刻。

    脈衝冷激光則既然相反。

    在理論上甚至能夠達到1納米級別,甚至更爲精細的光刻!

    他們在短時間內,光刻機的核心技術,曝光系統突飛猛進。

    反而是對準系統,開始拖後腿了。

    不過在今天發生的低頻電磁脈衝意外後。

    實驗室裏不斷閃爍的燈光,給了賀老靈感。

    沒錯,對準系統的解決方法很簡單。

    只需要反覆關閉啓動脈衝冷激光,以閃爍的方式進行光刻,在光刻中因爲持續運作所造成的誤差,可以大幅度減少。

    賀老看着幾名工作人員遞交過來的對準系統運行日誌,以及晶圓模具笑了起來。

    一切與他計算的一致!

    從另外的一個角度來說。

    大夏的高精度光刻機,已經可以提前宣佈,研發成功了!